中国电子院澄清国产光刻机工厂落地雄安：这是北京高能同步辐射光源

中国电子院澄清国产光刻机工厂落地雄安：这是北京高能同步辐射光源中国电子院澄清近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。 对此，中国电子工程设计院有限公司9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

来源：TOOM舆情监测

　　免责声明：本文由用户上传，与本网站立场无关。财经信息仅供读者参考，并不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。 如有侵权请联系删除！